第48回日本口腔インプラント学会学術大会

 

9月15日（土）と9月16日（日）の２日間、大阪国際会議場にて第48回公益社団法人日本口腔インプラント学会学術大会に参加してきました。今回はオールオン４治療において、側方セファロエックス線規格写真を分析した症例について発表しました。そしてオールオン4治療における、一つの規則性について解説してきました。より良い安全なインプラント治療の普及のために研究発表は続けて参ります。

患者様には休診となりご迷惑をおかけしましたが、何卒宜しくお願い致します。